Tenney实验室真空烘箱设计用于干燥，固化，排气，老化，过程控制和许多其他需要在减少的气氛中升高温度的应用。真空实验室烤箱包括微处理器数字控制，内置过温保护，以及一个完整的观察窗口的门。

性能

腔体尺寸:8.5立方英尺

温度范围:环境~ +200°C

控制:< 1°C

真空能力:8毫米/ hg

温度速率:> 2°C /分钟